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ZYGO共聚焦激光干涉儀光學(xué)賦能制造科研創(chuàng)新

產(chǎn)品簡介

ZYGO共聚焦激光干涉儀光學(xué)賦能制造科研創(chuàng)新在光學(xué)元件檢測、半導(dǎo)體制造、航空航天等高精度領(lǐng)域,表面形貌的測量與波前誤差分析是保障產(chǎn)品性能的核心環(huán)節(jié)。ZYGO作為全球光學(xué)計(jì)量領(lǐng)域的,其共聚焦激光干涉儀系列憑借創(chuàng)新的光學(xué)設(shè)計(jì)與智能化功能,為工業(yè)與科研用戶提供了兼顧效率與可靠性的解決方案,助力突破技術(shù)瓶頸。

產(chǎn)品型號:VeriFire
更新時(shí)間:2025-10-21
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:233
詳細(xì)介紹在線留言

在光學(xué)元件檢測、半導(dǎo)體制造、航空航天等高精度領(lǐng)域,表面形貌的精準(zhǔn)測量與波前誤差分析是保障產(chǎn)品性能的核心環(huán)節(jié)。ZYGO作為全球光學(xué)計(jì)量領(lǐng)域的,其共聚焦激光干涉儀系列憑借創(chuàng)新的光學(xué)設(shè)計(jì)與智能化功能,為工業(yè)與科研用戶提供了兼顧效率與可靠性的解決方案,助力突破技術(shù)瓶頸。

技術(shù)融合:共聚焦與干涉原理的協(xié)同創(chuàng)新

ZYGO共聚焦激光干涉儀突破傳統(tǒng)干涉儀單一測量模式的局限,通過共聚焦成像與干涉測量技術(shù)的深度融合,實(shí)現(xiàn)了對復(fù)雜表面的多維表征:

  • 共聚焦成像模塊:利用點(diǎn)光源照明與針孔濾波原理,可對微納結(jié)構(gòu)、透明薄膜等樣品進(jìn)行非接觸式層析成像,支持從納米級粗糙度到毫米級形貌的跨尺度檢測。例如,在半導(dǎo)體晶圓檢測中,該技術(shù)可清晰分辨多層鍍膜的界面形貌,為工藝優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支撐。

  • 干涉測量模塊:基于雙頻激光穩(wěn)頻技術(shù),通過分析參考光與測量光的干涉條紋,可精準(zhǔn)量化表面平面度、波前畸變等參數(shù)。其相位測量精度達(dá)λ/10000(RMS重復(fù)性<0.06nm),滿足高精度光學(xué)元件的制造標(biāo)準(zhǔn)。

  • 動(dòng)態(tài)耦合分析:部分型號(如Verifire HDX)集成DynaPhase®動(dòng)態(tài)采集技術(shù),可實(shí)時(shí)補(bǔ)償環(huán)境振動(dòng)干擾,確保在非理想工況下仍能獲取穩(wěn)定數(shù)據(jù),適用于生產(chǎn)線在線檢測場景。

核心優(yōu)勢:效率、精度與易用性的平衡

  1. 智能化操作體驗(yàn)
    新一代Qualifire™系列引入平面腔自動(dòng)對焦智能附件識別功能,用戶僅需放置樣品,系統(tǒng)即可自動(dòng)完成對焦、參數(shù)配置與誤差補(bǔ)償。例如,安裝球面參考鏡時(shí),儀器可自動(dòng)加載出廠校準(zhǔn)數(shù)據(jù)并擬合系統(tǒng)誤差,將設(shè)置時(shí)間縮短。其飛點(diǎn)環(huán)紋抑制技術(shù)通過動(dòng)態(tài)照明模式消除干涉腔內(nèi)相干噪聲,顯著提升信噪比,尤其適用于高反射率樣品的檢測。

  2. 多場景適應(yīng)性設(shè)計(jì)

    • 輕量化與模塊化:Qualifire™系列最輕型號僅21kg,配備密封光學(xué)系統(tǒng)與便攜式手柄,支持實(shí)驗(yàn)室與生產(chǎn)現(xiàn)場的靈活部署。其光學(xué)支腳采用防塵設(shè)計(jì),避免灰塵積累導(dǎo)致的偽影,降低維護(hù)成本。

    • 多表面測量能力:Verifire MST型號通過波長調(diào)制與傅里葉變換算法,可同時(shí)解析平行平板的前后表面形貌及光學(xué)厚度變化,一次采集即可獲取多項(xiàng)關(guān)鍵參數(shù),大幅提升檢測效率。

    • 大口徑與高分辨率兼容:Verifire HDX搭載3.4kx3.4k傳感器,結(jié)合優(yōu)化光學(xué)設(shè)計(jì),在全分辨率下實(shí)現(xiàn)96Hz幀率,兼顧中頻特征分析與高速采樣需求,適用于大口徑非球面鏡片的檢測。

  3. 數(shù)據(jù)深度分析能力
    配套Mx™分析軟件提供Zernike多項(xiàng)式擬合、功率譜密度(PSD)分析等工具,支持從微觀缺陷到宏觀形變的量化評估。例如,在激光核聚變裝置的光學(xué)元件檢測中,該軟件可精準(zhǔn)定位亞表面損傷位置,為拋光工藝提供改進(jìn)方向。

典型應(yīng)用:從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)業(yè)化的全鏈條覆蓋

  • 光學(xué)制造:某鏡片廠商利用Verifire™系列檢測自由曲面鏡片,通過PSD分析優(yōu)化加工參數(shù),使面形精度提升至λ/40 PV,產(chǎn)品良率顯著提高。

  • 半導(dǎo)體設(shè)備:在極紫外光刻(EUV)掩模版檢測中,Qualifire™的納米級粗糙度測量功能幫助用戶識別襯底表面污染,降低光刻缺陷率。

  • 航空航天:某衛(wèi)星制造商采用Verifire MST測量星載望遠(yuǎn)鏡的平行平板,通過同步獲取前后表面形貌與厚度變化數(shù)據(jù),縮短了光學(xué)系統(tǒng)的裝調(diào)周期。

  • 科研探索:在量子計(jì)算領(lǐng)域,研究人員利用該系列儀器表征超導(dǎo)量子比特的微波腔表面質(zhì)量,為提升量子態(tài)相干時(shí)間提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。

用戶價(jià)值:以技術(shù)迭代驅(qū)動(dòng)長期收益

ZYGO共聚焦激光干涉儀通過持續(xù)的技術(shù)升級本土化服務(wù)支持,為用戶創(chuàng)造長期價(jià)值:

  • 兼容性設(shè)計(jì):支持與主流品牌TEM、SEM等設(shè)備聯(lián)動(dòng),構(gòu)建多模態(tài)表征平臺。

  • 快速響應(yīng)服務(wù):在中國設(shè)有多個(gè)技術(shù)中心,提供設(shè)備校準(zhǔn)、操作培訓(xùn)與定制化解決方案,確保用戶需求及時(shí)落地。

  • 投資回報(bào)優(yōu)化:某消費(fèi)電子廠商通過引入Qualifire™替代傳統(tǒng)檢測設(shè)備,將單件檢測成本降低,同時(shí)提升了產(chǎn)品光學(xué)性能的市場競爭力。

結(jié)語:以光學(xué)精度,定義未來制造標(biāo)準(zhǔn)

ZYGO共聚焦激光干涉儀系列通過技術(shù)創(chuàng)新與場景深耕,重新定義了精密測量的邊界。無論是追求精度的科研機(jī)構(gòu),還是需要高效質(zhì)檢的工業(yè)客戶,該系列均能提供適配的解決方案。選擇ZYGO,即是選擇一種更智能、更靈活、更貼近實(shí)際需求的測量方式,助力您在精密制造與科研創(chuàng)新的道路上穩(wěn)步前行。

探索更多可能,立即聯(lián)系ZYGO授權(quán)代理商,獲取定制化解決方案與產(chǎn)品試用機(jī)會。

技術(shù)融合:共聚焦與干涉原理的協(xié)同創(chuàng)新

ZYGO共聚焦激光干涉儀突破傳統(tǒng)干涉儀單一測量模式的局限,通過共聚焦成像與干涉測量技術(shù)的深度融合,實(shí)現(xiàn)了對復(fù)雜表面的多維表征:

  • 共聚焦成像模塊:利用點(diǎn)光源照明與針孔濾波原理,可對微納結(jié)構(gòu)、透明薄膜等樣品進(jìn)行非接觸式層析成像,支持從納米級粗糙度到毫米級形貌的跨尺度檢測。例如,在半導(dǎo)體晶圓檢測中,該技術(shù)可清晰分辨多層鍍膜的界面形貌,為工藝優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支撐。

  • 干涉測量模塊:基于雙頻激光穩(wěn)頻技術(shù),通過分析參考光與測量光的干涉條紋,可精準(zhǔn)量化表面平面度、波前畸變等參數(shù)。其相位測量精度達(dá)λ/10000(RMS重復(fù)性<0.06nm),滿足高精度光學(xué)元件的制造標(biāo)準(zhǔn)。

  • 動(dòng)態(tài)耦合分析:部分型號(如Verifire HDX)集成DynaPhase®動(dòng)態(tài)采集技術(shù),可實(shí)時(shí)補(bǔ)償環(huán)境振動(dòng)干擾,確保在非理想工況下仍能獲取穩(wěn)定數(shù)據(jù),適用于生產(chǎn)線在線檢測場景。

核心優(yōu)勢:效率、精度與易用性的平衡

  1. 智能化操作體驗(yàn)
    新一代Qualifire™系列引入平面腔自動(dòng)對焦智能附件識別功能,用戶僅需放置樣品,系統(tǒng)即可自動(dòng)完成對焦、參數(shù)配置與誤差補(bǔ)償。例如,安裝球面參考鏡時(shí),儀器可自動(dòng)加載出廠校準(zhǔn)數(shù)據(jù)并擬合系統(tǒng)誤差,將設(shè)置時(shí)間縮短。其飛點(diǎn)環(huán)紋抑制技術(shù)通過動(dòng)態(tài)照明模式消除干涉腔內(nèi)相干噪聲,顯著提升信噪比,尤其適用于高反射率樣品的檢測。

  2. 多場景適應(yīng)性設(shè)計(jì)

    • 輕量化與模塊化:Qualifire™系列最輕型號僅21kg,配備密封光學(xué)系統(tǒng)與便攜式手柄,支持實(shí)驗(yàn)室與生產(chǎn)現(xiàn)場的靈活部署。其光學(xué)支腳采用防塵設(shè)計(jì),避免灰塵積累導(dǎo)致的偽影,降低維護(hù)成本。

    • 多表面測量能力:Verifire MST型號通過波長調(diào)制與傅里葉變換算法,可同時(shí)解析平行平板的前后表面形貌及光學(xué)厚度變化,一次采集即可獲取多項(xiàng)關(guān)鍵參數(shù),大幅提升檢測效率。

    • 大口徑與高分辨率兼容:Verifire HDX搭載3.4kx3.4k傳感器,結(jié)合優(yōu)化光學(xué)設(shè)計(jì),在全分辨率下實(shí)現(xiàn)96Hz幀率,兼顧中頻特征分析與高速采樣需求,適用于大口徑非球面鏡片的檢測。

  3. 數(shù)據(jù)深度分析能力
    配套Mx™分析軟件提供Zernike多項(xiàng)式擬合、功率譜密度(PSD)分析等工具,支持從微觀缺陷到宏觀形變的量化評估。例如,在激光核聚變裝置的光學(xué)元件檢測中,該軟件可精準(zhǔn)定位亞表面損傷位置,為拋光工藝提供改進(jìn)方向。

典型應(yīng)用:從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)業(yè)化的全鏈條覆蓋

  • 光學(xué)制造:某鏡片廠商利用Verifire™系列檢測自由曲面鏡片,通過PSD分析優(yōu)化加工參數(shù),使面形精度提升至λ/40 PV,產(chǎn)品良率顯著提高。

  • 半導(dǎo)體設(shè)備:在極紫外光刻(EUV)掩模版檢測中,Qualifire™的納米級粗糙度測量功能幫助用戶識別襯底表面污染,降低光刻缺陷率。

  • 航空航天:某衛(wèi)星制造商采用Verifire MST測量星載望遠(yuǎn)鏡的平行平板,通過同步獲取前后表面形貌與厚度變化數(shù)據(jù),縮短了光學(xué)系統(tǒng)的裝調(diào)周期。

  • 科研探索:在量子計(jì)算領(lǐng)域,研究人員利用該系列儀器表征超導(dǎo)量子比特的微波腔表面質(zhì)量,為提升量子態(tài)相干時(shí)間提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。

用戶價(jià)值:以技術(shù)迭代驅(qū)動(dòng)長期收益

ZYGO共聚焦激光干涉儀通過持續(xù)的技術(shù)升級本土化服務(wù)支持,為用戶創(chuàng)造長期價(jià)值:

  • 兼容性設(shè)計(jì):支持與主流品牌TEM、SEM等設(shè)備聯(lián)動(dòng),構(gòu)建多模態(tài)表征平臺。

  • 快速響應(yīng)服務(wù):在中國設(shè)有多個(gè)技術(shù)中心,提供設(shè)備校準(zhǔn)、操作培訓(xùn)與定制化解決方案,確保用戶需求及時(shí)落地。

  • 投資回報(bào)優(yōu)化:某消費(fèi)電子廠商通過引入Qualifire™替代傳統(tǒng)檢測設(shè)備,將單件檢測成本降低,同時(shí)提升了產(chǎn)品光學(xué)性能的市場競爭力。

結(jié)語:以光學(xué)精度,定義未來制造標(biāo)準(zhǔn)

ZYGO共聚焦激光干涉儀系列通過技術(shù)創(chuàng)新與場景深耕,重新定義了精密測量的邊界。無論是追求精度的科研機(jī)構(gòu),還是需要高效質(zhì)檢的工業(yè)客戶,該系列均能提供適配的解決方案。選擇ZYGO,即是選擇一種更智能、更靈活、更貼近實(shí)際需求的測量方式,助力您在精密制造與科研創(chuàng)新的道路上穩(wěn)步前行。

探索更多可能,立即聯(lián)系ZYGO授權(quán)代理商,獲取定制化解決方案與產(chǎn)品試用機(jī)會。

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