奧林巴斯 OLS5100：材料科研共聚焦利器
在材料科學(xué)、納米技術(shù)等科研領(lǐng)域，對微觀形貌的三維高精度分析是推動研究進展的重要支撐。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡 OLS5100，憑借出色的三維成像能力與豐富的分析功能，成為科研人員開展微觀研究的得力工具。
產(chǎn)品細(xì)節(jié)
OLS5100 采用落地式穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，機身尺寸約 800mm×600mm×1200mm，重量 120kg，底部設(shè)有防震腳墊，能有效減少外界振動對成像的影響。操作界面為 15 英寸觸控屏，搭配鼠標(biāo)、鍵盤接口，支持多用戶賬戶管理，可保存不同研究人員的操作參數(shù)與分析模板。樣品臺為電動平移結(jié)構(gòu)，行程 150mm×150mm，承重 5kg，支持 X/Y/Z 軸自動對焦與掃描，定位精度達 0.1μm，可實現(xiàn)樣品的全自動三維掃描。設(shè)備集成激光共聚焦模塊與光學(xué)成像模塊，可切換 2D 成像與 3D 掃描模式；側(cè)面預(yù)留拉曼光譜儀、原子力顯微鏡等擴展接口，滿足多技術(shù)聯(lián)用需求。此外，配備大型樣品室，可容納高度 100mm 的樣品，適合觀察塊狀材料、大型器件。
產(chǎn)品性能
OLS5100 采用 405nm 半導(dǎo)體激光光源，縱向分辨率達 10nm，橫向分辨率達 100nm，能清晰捕捉納米級表面起伏（如薄膜的島狀結(jié)構(gòu)、金屬表面的納米劃痕）。設(shè)備支持多種掃描模式：快速掃描（幀率 10 幀 / 秒）適合初步觀察，精細(xì)掃描（分辨率 4096×4096 像素）適合高分辨率三維重構(gòu)。三維分析功能豐富，可計算表面粗糙度（Ra、Rz）、體積、臺階高度、孔隙率等參數(shù)，數(shù)據(jù)可直接導(dǎo)出至 Origin、Matlab 等軟件進行進一步分析。測量過程中數(shù)據(jù)重復(fù)性較好，相同條件下多次掃描的三維形貌偏差小于 5%，能為科研提供可靠數(shù)據(jù)支持。
用材講究
核心光學(xué)部件選用高透光率石英玻璃，配合多層鍍膜技術(shù)，減少激光能量損失與雜散光干擾，確保成像質(zhì)量。樣品臺臺面采用耐磨陶瓷材質(zhì)，表面平整度誤差小于 2μm，既抗腐蝕又耐高溫（可配合加熱樣品臺使用，最高溫度 500℃）。內(nèi)部機械傳動部件采用精密滾珠絲杠與伺服電機，保障長期使用后的運動精度，減少部件磨損帶來的掃描偏差。設(shè)備外殼采用冷軋鋼板，表面經(jīng)過防靜電噴涂處理，能抵抗實驗室常見化學(xué)試劑的腐蝕，同時減少靜電對電子元件的影響。
參數(shù)詳情
廣泛用途
在納米材料研發(fā)中，觀察納米顆粒的分散狀態(tài)、納米管的排列結(jié)構(gòu)；在薄膜科學(xué)研究中，測量薄膜的厚度均勻性、表面粗糙度，分析沉積工藝對薄膜性能的影響；在生物材料研究中，觀察細(xì)胞在支架表面的黏附形態(tài)、生物涂層的三維結(jié)構(gòu)；在金屬材料研究中，分析金屬疲勞后的納米級裂紋擴展、腐蝕產(chǎn)物的微觀形貌。
使用說明
使用前，將設(shè)備放置在恒溫恒濕的科研實驗室中（溫度波動＜±1℃/ 小時），安裝在光學(xué)防震平臺上，遠(yuǎn)離強磁場（如核磁共振儀）與強電場。打開設(shè)備電源，預(yù)熱 30 分鐘，同時啟動激光校準(zhǔn)程序，確保激光光路穩(wěn)定。樣品制備需符合共聚焦測量要求：導(dǎo)電性樣品需清潔表面氧化層；絕緣樣品（如聚合物、陶瓷）無需特殊處理，但需確保表面干燥；納米級樣品需固定在專用樣品座上，避免掃描時移動。將樣品放置在電動樣品臺上，關(guān)閉樣品室門，通過觸控屏設(shè)置掃描參數(shù)（如掃描范圍、分辨率、掃描速度），選擇 “3D 掃描" 模式。啟動掃描后，系統(tǒng)自動完成對焦與數(shù)據(jù)采集，實時顯示三維形貌重構(gòu)過程。掃描完成后，利用配套軟件進行數(shù)據(jù)分析（如計算表面粗糙度、提取臺階高度），并保存原始數(shù)據(jù)與分析報告。實驗結(jié)束后，關(guān)閉激光光源，待設(shè)備冷卻后關(guān)閉電源，清潔樣品臺與樣品室。每周清潔光學(xué)鏡頭與激光出射口，每 3 個月請專業(yè)人員校準(zhǔn)激光光路與掃描精度。
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